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J-GLOBAL ID:200903091413275521

洗浄剤組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 熊倉 禎男 ,  小川 信夫 ,  箱田 篤 ,  浅井 賢治 ,  平山 孝二 ,  真柴 俊一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008129911
Publication number (International publication number):2009275177
Application date: May. 16, 2008
Publication date: Nov. 26, 2009
Summary:
【課題】洗浄剤組成物、特に、金属加工部品等に代表される精密部品の洗浄に適した洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】(A)一般式R1O(EO)n(PO)mH (式中、R1は炭素数8〜11のアルキル基又はアルケニル基を意味し、EO及びPOはそれぞれエチレンオキシド及びプロピレンオキシドを意味し、nはEOの平均付加モル数を表しかつ1〜10の数であり、mはPOの平均付加モル数を表しかつ0〜5の数である)で表される、非イオン性界面活性剤、(B)含窒素有機アルカリ化合物、及び(C)キレート剤を含む、洗浄剤組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(A)一般式R1O(EO)n(PO)mH (式中、R1は炭素数8〜11のアルキル基又はアルケニル基を意味し、EO及びPOはそれぞれエチレンオキシド及びプロピレンオキシドを意味し、nはEOの平均付加モル数を表しかつ1〜10の数であり、mはPOの平均付加モル数を表しかつ0〜5の数である)で表される、非イオン性界面活性剤、 (B)含窒素有機アルカリ化合物、及び (C)キレート剤 を含む、洗浄剤組成物。
IPC (5):
C11D 3/26 ,  C11D 1/722 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/33 ,  C11D 3/20
FI (5):
C11D3/26 ,  C11D1/722 ,  C11D1/72 ,  C11D3/33 ,  C11D3/20
F-Term (15):
4H003AC08 ,  4H003AC09 ,  4H003AC23 ,  4H003BA12 ,  4H003DA09 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DB02 ,  4H003DB03 ,  4H003EB07 ,  4H003EB08 ,  4H003EB16 ,  4H003EB19 ,  4H003FA04 ,  4H003FA07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-128465   Applicant:ライオン株式会社
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-099580   Applicant:第一工業製薬株式会社
Cited by examiner (5)
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