薄膜形成ポリマ-

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999117012
Publication number (International publication number)：2000026548
Application date： Apr. 23, 1999
Publication date： Jan. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】種々の用途、特にフォトレジストに使用することのできる1,2-ジカルボン酸半エステル群族を有する薄膜形成性の機能性ポリマーを提供する。【解決手段】酸不安定性で耐加水分解性ポリマー成分(A)と耐熱性ポリマー成分(B)を有する1,2-ジカルボン酸半エステル群族を有する機能性ポリマーを形成する。

Claim (excerpt)：

以下の構造【化1】の1〜99モル%の分量の酸不安定性で耐加水分解性のポリマー成分(A)、以下の構造【化2】の99〜1モル%の分量の耐熱性ポリマー成分(B)[式中n=0、1、2又は3であり、R1は第3級炭素原子を介して酸素原子に結合されている合わせて4〜10個の炭素原子を有する炭化水素基又は2-テトラヒドロフラニル基又は2-テトラヒドロピラニル基であり、R2、R3及びR4は-互いに独立して-C1〜C6-アルキル又はC1〜C6-アルコキシ、C6〜C18-アリール又はC6〜C18-アリールオキシ又はC6〜C18-アリール基及びC1〜C4-アルキレン基を有するアラルキルであり、R5はH又はC1〜C6-アルキルであり、XはSi又はSnであり、YはO又はNHである]を有することを特徴とする1,2-ジカルボン酸半エステル群族を有する薄膜形成性機能性ポリマー。

IPC (4)：

C08F222/16 , C08F230/04 , C08F232/08 , G03F 7/033

FI (4)：

C08F222/16 , C08F230/04 , C08F232/08 , G03F 7/033

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-075751
特開平2-282746
特開昭62-172342

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