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J-GLOBAL ID：200903091601812607

位置合わせ装置及びそれを用いた投影露光装置

Inventor： 刑部 祐一 ,  小太刀 庸弘
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997323781
Publication number (International publication number)：1999143087
Application date： Nov. 10, 1997
Publication date： May. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】 レチクル面のパターンをウエハ面の投影レンズ系で投影露光する際、レチクルとウエハとの位置合わせを高精度に行った位置合わせ装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】 露光すべきパターンとアライメント用の複数のマークを有するレチクル、該レチクルのパターンが露光される感光基板を保持して移動可能な基板ステージ、該レチクルのパターンを該感光基板の被投影領域に結像投影させる投影光学系、該レチクル、基板ステージ、そして感光基板のうちの少なくとも1つの相対的な位置決めを行うためのマークを有し、該レチクルと該投影光学系間の光軸上に配置された平行平面ガラスとを有し、該平行平面ガラスに設けたマークを利用して該レチクル、基板ステージ、感光基板のうちの少なくとも1つの位置決めを行っていること。

Claim (excerpt)：

露光すべきパターンとアライメント用の複数のマークを有するレチクル、該レチクルのパターンが露光される感光基板を保持して移動可能な基板ステージ、該レチクルのパターンを該感光基板の被投影領域に結像投影させる投影光学系、該レチクル、基板ステージ、そして感光基板のうちの少なくとも1つの相対的な位置決めを行うためのマークを有し、該レチクルと該投影光学系間の光軸上に配置された平行平面ガラスとを有し、該平行平面ガラスに設けたマークを利用して該レチクル、基板ステージ、感光基板のうちの少なくとも1つの位置決めを行っていることを特徴とする位置合わせ装置。

IPC (2)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 508 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 露光装置および露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-216082   Applicant：キヤノン株式会社
• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-017647   Applicant：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-017648   Applicant：株式会社ニコン