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J-GLOBAL ID：200903091738748825

熱伝達面に対する浮遊固体粒子の有害成分による攻撃を減少させる方法および装置

Inventor：
ハイパネン,ティモ

About ハイパネン,ティモ


Applicant, Patent owner：
フォスター ホイーラー エナージア オサケ ユキチュア

About フォスター ホイーラー エナージア オサケ ユキチュア


Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998500253
Publication number (International publication number)：1999512814
Application date： Jun. 04, 1997
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：
【要約】流動床反応装置における熱伝達室内の熱伝達面に対する浮遊固体粒子の有害成分による攻撃を減少させる方法および装置である。本発明によれば、内部で固体粒子から成る床16’が装置系を循環される希釈室16が提供される。この希釈室は、前記固体粒子の流れに含まれる熱伝達面46に有害な不純物を不活性化させ、および(または)該流れから該不純物を分離するために、熱伝達室18の粒子の流れの上流側に配置される。固体粒子は反応室からその固体粒子の有害成分を掃除するための希釈室を経て熱伝達室内へ排出される。
Claim (excerpt)：
内部に配置された固体粒子から成る床、前記固体粒子の前記床を流動化させる手段、反応室出口(26)および反応室入口(50)を有してなる処理室すなわち燃焼室のような反応室(12)と、 内部に配置された固体粒子から成る床、前記固体粒子から成る床を流動化させる手段(48)、前記固体粒子から成る床と少なくとも部分的に接触される熱伝達面(46)、前記反応室出口(26)に連結された熱伝達室入口(44)、および反応室入口に連結された固体粒子のための熱伝達室出口(50)を有してなる熱伝達室(18)とを含んで構成された、流動床反応装置における熱伝達面に対する浮遊固体粒子の有害成分による攻撃を減少させる方法であって、 前記反応室から前記反応室出口(26)を通して固体粒子を排出する段階と、 前記排出された固体粒子を、内部に固体粒子から成る床(16’)を有する希釈室(16)に導入する段階と、 前記希釈室の固体粒子から成る床(16’)の熱伝達面に有害な不純物を不活性化する、および(または)前記床から分離する段階と、 前記希釈室からその希釈室出口(40)を通して固体粒子を排出する段階と、 前記希釈室から排出された固体粒子を前記熱伝達室入口(44)を通して前記熱伝達室(18)へ導入する段階と、 前記熱伝達室(18)から前記熱伝達室出口(50)を通して前記固体粒子を排出する段階と、 前記熱伝達室(18)から排出された固体粒子を前記反応室入口(50)を通して前記反応室(12)へ再循環させる段階とを含むことを特徴とする方法。
IPC (3)：
F23C 11/02 311 ,  B01J 8/24 ,  F22B 1/02
FI (3)：
F23C 11/02 311 ,  B01J 8/24 ,  F22B 1/02 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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