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J-GLOBAL ID：200903091819268798

蛍光X線分析装置

Inventor：
森岡 和

About 森岡 和

, 
丸井 隆雄

About 丸井 隆雄


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 塩野入 章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002155674
Publication number (International publication number)：2003344318
Application date： May. 29, 2002
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：
【要約】【課題】 蛍光X線分析装置において、照射源や検出器等の分析機構と試料との衝突を簡易に防止すること。【解決手段】 試料Sが分析機構に衝突する前に、試料Sが照射室に接近したことを検出する接触センサを設けることにより、分析機構や照射室と試料との衝突を防止するものであり、試料から蛍光X線を発生させる照射源(X線源2)、及びこの蛍光X線を検出する検出器6を有する照射室(X線照射室7)と、照射室(X線照射室7)の下方に間隔をあけて対向配置する試料ステージ8とを有する蛍光X線分析装置において、照射室(X線照射室7)と試料ステージ8との間に、少なくとも照射室(X線照射室7)が試料ステージ8と対向する面を覆うカバー部材9を備え、このカバー部材は試料との接触を検出する電気的スイッチ機構を構成する。
Claim (excerpt)：
試料にX線を照射する照射源、及び試料から発生するX線を検出する検出器を有する照射室と、前記照射室の下方に間隔をあけて対向配置する試料ステージとを有する蛍光X線分析装置において、前記照射室と前記試料ステージとの間に、少なくとも照射室が試料ステージと対向する面を覆うカバー部材を備え、前記カバー部材は、試料との接触を検出する電気的スイッチ機構の一端を構成することを特徴とする、蛍光X線分析装置。
F-Term (9)：
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001PA11 ,  2G001PA14 ,  2G001QA01 ,  2G001SA15 ,  2G001SA16 ,  2G001SA30
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特公平3-021844
  • 可搬型蛍光X線分析計
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-108312   Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
  • 特開昭62-066215
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