Al系金属層のプラズマエッチング方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995008609
Publication number (International publication number)：1996203911
Application date： Jan. 24, 1995
Publication date： Aug. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 Al系金属層のプラズマエッチングにおいて、エッチングマスクとの選択比が大きく、異方性に優れ、パーティクル汚染やアフターコロージョンの少ないプロセスを提供する。【構成】エッチングマスクとしてSiOF等フッ素を含む無機系材料層4を用いてAl系金属層3をプラズマエッチングする。【効果】フッ素を含む無機系材料層4によるエッチングマスクがスパッタリングされ、これにより供給される活性フッ素により、パターニング中のAl系金属層3の側面にはAlFx 系の側壁保護膜6が形成される。このためAl系金属層3は異方的にパターニングされるとともに、この側壁保護膜6はClを含まないのでアフターコロージョンの虞れがない。イオウ系材料による側壁保護膜を併用すればこの効果は徹底される。

Claim (excerpt)：

Fを含む無機系材料層をエッチングマスクとし、Al系金属層をパターニングすることを特徴とする、Al系金属層のプラズマエッチング方法。

IPC (3)：

H01L 21/3213 , H01L 21/3065 , H01L 21/3205

FI (3)：

H01L 21/88 D , H01L 21/302 G , H01L 21/88 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平1-134951
特開平3-136240
エツチング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-298778 Applicant：株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社