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J-GLOBAL ID：200903092290060599

露光方法、走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いるデバイス製造方法

Inventor： 黒澤 博史 ,  森 鉄也
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994237094
Publication number (International publication number)：1995183214
Application date： Sep. 30, 1994
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 走査露光において、原板のパターンを基板上のパターン領域に正確に重ね合わせること。【構成】 光源9からの露光光で照明されたレチクル14のパターンを投影光学系21によりウエハ18上に投影し、露光光及び投影光学系に対してレチクル及びウエハを走査することにより、レチクルのパターンをウエハ上のパターン領域に重ねる時に、走査中に投影光学系のレンズを光軸方向に移動させることにより投影光学系の投影倍率を変え、前記原板のパターンを前記基板上のパターン領域に正確に重ね合わせる。

Claim (excerpt)：

露光光で照明された原板のパターンを投影光学系により基板上に投影し、前記露光光及び前記投影光学系に対して前記原板及び前記基板を走査する段階を含む露光方法において、前記投影光学系の投影倍率を走査中に変えることにより前記原板のパターンを前記基板上のパターン領域に正確に重ね合わせることを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02

FI (5)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 514 D ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 516 ,  H01L 21/30 520

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-100621   Applicant：株式会社ニコン
• 走査型露光装置及び露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-232963   Applicant：株式会社ニコン
• 特開昭61-144021