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J-GLOBAL ID：200903092409207810

不透過箇所を有する膜の製造方法

Inventor：
穴澤 孝典

About 穴澤 孝典

, 
寺前 敦司

About 寺前 敦司


Applicant, Patent owner：
財団法人川村理化学研究所

About 財団法人川村理化学研究所


Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999046491
Publication number (International publication number)：2000237556
Application date： Feb. 24, 1999
Publication date： Sep. 05, 2000
Summary：
【要約】【課題】 不透過箇所の厚みが透過箇所の厚みより薄くない膜を製造可能であり、孔径分布に優れた多孔質膜を製造でき、不透過箇所の細孔は完全に閉塞しながら、微小な透過箇所又は不透過箇所を形成することが可能であり、かつ単純な工程で製造可能な、不透過箇所を有する膜の製造方法を提供すること。【解決手段】 多孔質層を有する膜の一部の範囲の細孔中にエネルギー線硬化性化合物を含有するエネルギー線硬化性組成物を充填し、エネルギー線を照射することにより該エネルギー線硬化性化合物を硬化させて、多孔質層を有する膜の一部の範囲に不透過箇所を形成する方法。多孔質層を有する膜の細孔中にエネルギー線硬化性化合物を含有するエネルギー線硬化性組成物を充填し、その一部の範囲にエネルギー線を照射することにより照射部のエネルギー線硬化性化合物を硬化させた後、未硬化のエネルギー線硬化性化合物を除去することによって多孔質層を有する膜の一部の範囲に不透過箇所を形成する方法。
Claim (excerpt)：
多孔質層を有する膜の一部の範囲の細孔中にエネルギー線硬化性化合物を含有するエネルギー線硬化性組成物を充填し、エネルギー線を照射することにより該エネルギー線硬化性化合物を硬化させて、多孔質層を有する膜の一部の範囲に不透過箇所を形成することを特徴とする不透過箇所を有する膜の製造方法。
IPC (8)：
B01D 67/00 500 ,  B01D 63/08 ,  B01D 71/82 ,  C08F 2/46 ,  C08J 7/18 ,  C08J 9/36 CER ,  C08J 9/36 CEZ ,  C08L101/16
FI (8)：
B01D 67/00 500 ,  B01D 63/08 ,  B01D 71/82 ,  C08F 2/46 ,  C08J 7/18 ,  C08J 9/36 CER ,  C08J 9/36 CEZ ,  C08L101/00
F-Term (64)：
4D006GA02 ,  4D006GA07 ,  4D006GA13 ,  4D006GA25 ,  4D006GA27 ,  4D006GA35 ,  4D006MA03 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MC54X ,  4D006MC90 ,  4D006NA32 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006PA02 ,  4D006PA04 ,  4D006PB08 ,  4D006PB19 ,  4D006PC11 ,  4D006PC41 ,  4D006PC42 ,  4F073AA05 ,  4F073AA11 ,  4F073BA00 ,  4F073BB04 ,  4F073BB08 ,  4F073BB11 ,  4F073CA42 ,  4F073CA45 ,  4F073FA01 ,  4F073FA03 ,  4F074AA15 ,  4F074AA56 ,  4F074AD11 ,  4F074AD21 ,  4F074CD04 ,  4F074CD11 ,  4F074CE15 ,  4F074CE19 ,  4F074CE34 ,  4F074CE35 ,  4F074CE85 ,  4F074DA10 ,  4F074DA33 ,  4J002AA011 ,  4J002BB001 ,  4J002BC031 ,  4J002BC061 ,  4J002BC091 ,  4J002BD001 ,  4J002BG042 ,  4J002BG052 ,  4J002BG061 ,  4J002BG072 ,  4J002BG082 ,  4J002BH022 ,  4J002CF001 ,  4J002CL001 ,  4J002CN031 ,  4J002FD140 ,  4J011QA03 ,  4J011QA06 ,  4J011SA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 多孔質膜
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-238578   Applicant：大日本印刷株式会社
  • 化学分析用膜およびその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-061759   Applicant：テフコ株式会社
  • 水素分離膜
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-060883   Applicant：三菱重工業株式会社
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