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J-GLOBAL ID：200903092448185947

オゾン水製造装置

Inventor：
水谷 淳二

About 水谷 淳二

, 
森山 優一

About 森山 優一


Applicant, Patent owner：
株式会社ササクラ

About 株式会社ササクラ


Agent (1)： 三枝 英二 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000368752
Publication number (International publication number)：2002166147
Application date： Dec. 04, 2000
Publication date： Jun. 11, 2002
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】複雑乃至大型の装置を必要とすることなく、高濃度のオゾン水を低コストで製造することができる装置を提供する。【解決手段】超純水とオゾンガスとを接触させてオゾン水を製造するための装置であって、超純水を循環経路5に供給するための超純水給水経路3と、超純水を循環経路内で加圧流動させるための加圧装置7と、加圧超純水の圧力を利用してオゾンガスを超純水中に導入するためのエゼクタ11と、超純水とオゾンガスとからなる混合体から気泡を分離するための液体サイクロン方式の気泡分離装置13と、分離された気泡の排出経路21と、オゾン水の取り出し経路25とを備えたことを特徴とするオゾン水製造装置。
Claim (excerpt)：
超純水とオゾン含有ガスとを接触させてオゾン水を製造するための装置であって、超純水を循環経路に供給するための超純水給水経路と、超純水を循環経路内で加圧流動させるための加圧装置と、加圧超純水の圧力を利用してオゾン含有ガスを超純水中に導入するためのエゼクタと、超純水とオゾン含有ガスとからなる混合体から気泡を分離するための液体サイクロンを備えた気泡分離容器と、分離された気泡の排出経路と、オゾン水の取り出し経路とを備えたことを特徴とするオゾン水製造装置。
IPC (6)：
B01F 1/00 ,  B01D 19/00 102 ,  B01D 35/02 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/78 ,  F04B 43/08
FI (6)：
B01F 1/00 A ,  B01D 19/00 102 ,  B01F 3/04 F ,  C02F 1/78 ,  F04B 43/08 A ,  B01D 35/02 M
F-Term (22)：
3H077AA02 ,  3H077BB10 ,  3H077CC03 ,  3H077EE37 ,  4D011AA05 ,  4D011AC01 ,  4D011AC05 ,  4D011AC06 ,  4D011AD03 ,  4D050AA01 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D050CA15 ,  4D064AA03 ,  4D064BB08 ,  4G035AA02 ,  4G035AE13 ,  4G035AE15 ,  4G035AE17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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