半導体ウエハのオゾン水洗浄システム

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：清水守 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998226058
Publication number (International publication number)：2000058496
Application date： Aug. 10, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】半導体ウエハからのレジストの除去時間が短縮され、効率的な洗浄を行なうことができる半導体ウエハのオゾン水洗浄システムを提供する。【解決手段】半導体ウエハのオゾン水洗浄システムにおいて、洗浄槽2とオゾン水生成装置6の間のオゾン水供給ライン4上にオゾン水を昇温するためのヒータ5を設ける。

Claim (excerpt)：

半導体ウエハのオゾン水洗浄システムにおいて、洗浄槽とオゾン水生成装置の間のオゾン水供給ライン上にオゾン水を昇温するためのヒータを設けるようにしたことを特徴とする半導体ウエハのオゾン水洗浄システム。

IPC (3)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/304 642 , B08B 3/08

FI (3)：

H01L 21/304 648 G , H01L 21/304 642 E , B08B 3/08 Z

F-Term (10)：

3B201AA02 , 3B201AB02 , 3B201BB03 , 3B201BB82 , 3B201BB85 , 3B201BB88 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201BB98 , 3B201CB12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-146616
洗浄方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-078556 Applicant：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
特開平2-164035

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