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J-GLOBAL ID：200903092686406420

廃棄物の処理方法および処理装置

Inventor：
吉森 正嗣

About 吉森 正嗣

, 
市橋 利夫

About 市橋 利夫


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 波多野 久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999011180
Publication number (International publication number)：2000202419
Application date： Jan. 19, 1999
Publication date： Jul. 25, 2000
Summary：
【要約】【課題】廃棄物中に含まれる有機物のガス化および回収率の一層の向上、ダイオキシン等の有害物質の完全な除去、装置類への付着物の除去容易化等を図り、それらにより有機物を含む全ての廃棄物の処理技術の確立を図る。【解決手段】有機物を含む廃棄物aを、燃料と空気とを燃焼させて得られた高温の燃焼ガスを熱源とする空気遮断状態下での間接加熱により、熱分解ガスbと固体状の残さcとに分解する熱分解工程と、空気、酸素富化空気または酸素を含む酸化剤ガスbと熱分解工程で得られた熱分解ガスbとを導入し、熱分解ガスb中に含まれる可燃成分と酸化剤ガス中の酸素との間で反応を起こさせ、熱分解ガスb中の高位炭化水素を低位炭化水素等に変換させるガス改質工程と、このガス改質工程で得られた高温のガスを急冷するガス冷却工程と、このガス冷却工程で得られたガスを導入し、そのガス中に含まれるダストおよび有害成分を浄化処理するガス浄化工程とを備える。
Claim (excerpt)：
有機物を含む廃棄物を、燃料と空気とを燃焼させて得られた高温の燃焼ガスを熱源とする空気遮断状態下での間接加熱により、熱分解ガスと固体状の残さとに分解する熱分解工程と、空気、酸素富化空気または酸素を含む酸化剤ガスと前記熱分解工程で得られた熱分解ガスとを導入し、前記熱分解ガス中に含まれる可燃成分と前記酸化剤ガス中の酸素との間で反応を起こさせ、前記熱分解ガス中の高位炭化水素を低位炭化水素、一酸化炭素、二酸化炭素、水素、水蒸気に変換させるガス改質工程と、このガス改質工程で得られた高温のガスを急冷するガス冷却工程と、このガス冷却工程で得られたガスを導入し、そのガス中に含まれるダストおよび有害成分を浄化処理するガス浄化工程とを備えることを特徴とする廃棄物の処理方法。
IPC (18)：
B09B 5/00 ZAB ,  B09B 5/00 ,  B01D 53/68 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/64 ,  B01D 53/86 ,  B09B 3/00 ,  C02F 11/00 ,  C02F 11/10 ,  C10B 53/00 ,  C10B 53/02 ,  C10J 3/00 ,  C10K 1/02 ,  C10K 1/10 ,  C10K 1/12 ,  C10K 1/20 ,  C10K 1/32 ,  C10K 3/00
FI (25)：
B09B 5/00 ZAB M ,  C02F 11/00 C ,  C02F 11/10 A ,  C10B 53/00 A ,  C10B 53/00 B ,  C10B 53/02 ,  C10J 3/00 A ,  C10K 1/02 ,  C10K 1/10 ,  C10K 1/12 ,  C10K 1/20 ,  C10K 1/32 ,  C10K 3/00 ,  B01D 53/34 134 D ,  B01D 53/34 136 A ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 G ,  B09B 3/00 302 E ,  B09B 3/00 302 A ,  B09B 3/00 302 Z ,  B09B 3/00 303 E ,  B09B 3/00 303 Z ,  B09B 3/00 303 H ,  B09B 5/00 N ,  B09B 5/00 Q
F-Term (100)：
4D002AA15 ,  4D002AA19 ,  4D002AA21 ,  4D002AA22 ,  4D002AA23 ,  4D002AA29 ,  4D002AC04 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA07 ,  4D002BA12 ,  4D002BA13 ,  4D002BA16 ,  4D002CA01 ,  4D002CA05 ,  4D002CA07 ,  4D002DA22 ,  4D002DA41 ,  4D002DA51 ,  4D002EA09 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB04 ,  4D002HA08 ,  4D004AA02 ,  4D004AA07 ,  4D004AA08 ,  4D004AA09 ,  4D004AA12 ,  4D004AA22 ,  4D004AA24 ,  4D004AA28 ,  4D004AA31 ,  4D004AA41 ,  4D004AA46 ,  4D004AA47 ,  4D004AA48 ,  4D004AB03 ,  4D004AB06 ,  4D004AB07 ,  4D004AB08 ,  4D004AC05 ,  4D004BA03 ,  4D004BA06 ,  4D004CA09 ,  4D004CA27 ,  4D004CA29 ,  4D004CA42 ,  4D004CB31 ,  4D004CB34 ,  4D004CB43 ,  4D004CB44 ,  4D004DA02 ,  4D004DA03 ,  4D004DA06 ,  4D048AA11 ,  4D048AA17 ,  4D048CC39 ,  4D048CD02 ,  4D048CD05 ,  4D048CD08 ,  4D048CD10 ,  4D048EA01 ,  4D048EA03 ,  4D048EA07 ,  4D059AA00 ,  4D059BB03 ,  4D059BB14 ,  4D059BD00 ,  4D059BE00 ,  4D059CC03 ,  4D059CC10 ,  4H012HA01 ,  4H012HB01 ,  4H012JA03 ,  4H012JA09 ,  4H012JA13 ,  4H060AA01 ,  4H060AA02 ,  4H060BB02 ,  4H060BB07 ,  4H060BB22 ,  4H060BB23 ,  4H060BB25 ,  4H060CC01 ,  4H060CC04 ,  4H060CC11 ,  4H060DD12 ,  4H060DD13 ,  4H060DD14 ,  4H060DD24 ,  4H060DD28 ,  4H060FF03 ,  4H060FF04 ,  4H060GG02 ,  4H060GG08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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