バイオ光学スキャニング較正方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006554121
Publication number (International publication number)：2007527529
Application date： Feb. 08, 2005
Publication date： Sep. 27, 2007
Summary：

方法(188)、装置(10)、および組成物(30)は、インビボで非破壊的に組織の選択された分子構造を検出するバイオ光学スキャナーを較正する。装置(10)は、プロセッサー、メモリー、およびスキャナーを備え得る。スキャナーは、光を非破壊的に組織上にインビボで向け、次いで、検出器内へ戻る鏡およびレンズのシステムを通る放射応答の戻りを受容する。スキャナーを制御し、その出力を処理するソフトウェアは、組織の放射応答を模倣する合成材料(30)を使用して較正され得る。較正は、バックグラウンド蛍光および弾性散乱を考慮し得、目的のラマン散乱応答を実質的に有さない皮膚組織材料を模倣する。ドーパント(125c)は、組織内の選択された分子構造を模倣するためにホワイトスキャン材料のマトリクス(125b)に添加され得る。

Claim (excerpt)：

インビボで非破壊的に、組織の選択された分子構造を検出するためのバイオ光学スキャナーを較正するための方法であって、該方法が、以下: プロセッサーおよびメモリを備えるコンピューターを提供する工程; インビボで組織に非破壊的に光を向けるための照明器を備えるスキャナー、光に対する組織の放射応答の強度を検出するための検出器、および該コンピューターと連通するコンピューターインターフェースを提供する工程; 該組織の放射応答を模倣するように選択された模倣材料を含むサンプルを含む較正器具を提供する工程; 該照明器から該模倣材料上に光を向け、それに対する第1の放射応答を検出することによって、該スキャナーについての較正パラメーターを決定する工程; 該光の状態、該光に対する第1の放射応答、および該較正パラメーターに対応する入力を該プロセッサーに提供する工程;および該照明器に対するインビボでの組織の第2の放射応答を繰り返し検出するために該入力を処理する工程、を包含する、方法。

IPC (2)：

G01N 21/65 , G01N 21/27

FI (2)：

G01N21/65 , G01N21/27 F

F-Term (16)：

2G043BA14 , 2G043BA16 , 2G043EA01 , 2G043EA03 , 2G043FA07 , 2G043KA09 , 2G043LA01 , 2G043MA01 , 2G043NA01 , 2G043NA06 , 2G043NA13 , 2G059AA10 , 2G059BB08 , 2G059CC12 , 2G059EE02 , 2G059GG01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

米国特許第5,873,831号明細書
米国特許第6,205,354号明細書
米国特許出願公開第2003/0130579号明細書

Cited by examiner (6)

蛍光検出方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-005251 Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
蛍光測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-086455 Applicant：財団法人電力中央研究所, サピダインインストルメントインコーポレイテッド
生物組織中のカロテノイドと関連する化学物質との非侵襲的測定方法および装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-504288 Applicant：ザユニヴァーシティオブユタリサーチファウンデーション

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