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J-GLOBAL ID：200903092982295294

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997043974
Publication number (International publication number)：1998239846
Application date： Feb. 27, 1997
Publication date： Sep. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】 170nm〜220nmという波長領域の光に対して十分好適であり、かつ光に対して高感度で、得られるレジストパターンプロファイルが優れ、且つ基板との密着性が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 特定のエステル基を分子内に有し、且つ酸の作用により分解しアルカリ溶液に対する溶解性が増加する樹脂と活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下記一般式〔I〕で表されるエステル基を分子内に有し、且つ酸の作用により分解しアルカリ溶液に対する溶解性が増加する樹脂と、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 〜R4 は、同じでも異なってもよく、水素原子又はアルキル基を表す。mは1又は2を表す。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-012406   Applicant：住友化学工業株式会社
• 化学増幅型ホトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-011581   Applicant：東京応化工業株式会社