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J-GLOBAL ID:200903093028984450

酸化チタンの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000098704
Publication number (International publication number):2001278625
Application date: Mar. 31, 2000
Publication date: Oct. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】 可視光線を照射することによって触媒活性を示す酸化チタンを真空容器を備えた特定の装置を用いることなく簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】 酸化チタン前駆体をアンモニアガス存在下で熱処理した後、300〜600°Cで焼成する。
Claim (excerpt):
酸化チタン前駆体をアンモニアガス存在下で熱処理した後、焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。
IPC (3):
C01G 23/04 ,  B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ZAB
FI (4):
C01G 23/04 B ,  C01G 23/04 Z ,  B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 ZAB A
F-Term (33):
4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G047CD05 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069AA11 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BD01A ,  4G069BD01B ,  4G069BD02A ,  4G069BD02B ,  4G069BE06B ,  4G069BE13A ,  4G069BE13B ,  4G069CA01 ,  4G069CA03 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA13 ,  4G069CA17 ,  4G069DA05 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EA03X ,  4G069EA03Y ,  4G069FC04 ,  4G069FC07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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