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J-GLOBAL ID:200903093037754157
磁気検出素子及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
野▲崎▼ 照夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001305143
Publication number (International publication number):2003110168
Application date: Oct. 01, 2001
Publication date: Apr. 11, 2003
Summary:
【要約】【課題】 狭トラック化においても適切にフリー磁性層の磁化制御を行うことができ、再生特性に優れた磁気検出素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 フリー磁性層26の中央部上にスペキュラー層31及び非磁性層32を有し、前記フリー磁性層26の両側端部上に強磁性層28及び第2反強磁性層29が設けられている。本発明ではスペキュラー層31や非磁性層32などの総合膜厚h1を薄く形成でき、前記フリー磁性層26の両側端部上の各層をイオンミリングして除去する工程で、前記イオンミリングを低エネルギーで行うことができ、前記フリー磁性層26の両側端部表面がダメージを受け難くでき、前記フリー磁性層26の両側端部上の強磁性層28との間で発生する強磁性的な結合を強めることができ、適切に前記フリー磁性層26の磁化制御を行うことが可能である。
Claim (excerpt):
下から第1反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層の順に積層形成され、前記フリー磁性層の中央部上には下から順にスペキュラー層、非磁性層が設けられ、前記フリー磁性層のトラック幅方向の両側端部上には、下から順に強磁性層、第2反強磁性層が設けられていることを特徴とする磁気検出素子。
IPC (6):
H01L 43/08
, G01R 33/09
, G11B 5/39
, H01F 10/16
, H01F 10/32
, H01L 43/12
FI (6):
H01L 43/08 Z
, G11B 5/39
, H01F 10/16
, H01F 10/32
, H01L 43/12
, G01R 33/06 R
F-Term (10):
2G017AA01
, 2G017AD55
, 2G017AD65
, 5D034BA03
, 5D034BA04
, 5D034BA05
, 5D034CA08
, 5D034DA07
, 5E049BA16
, 5E049DB12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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