Pat
J-GLOBAL ID:200903093143373499
ラミネート方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998218494
Publication number (International publication number):2000029211
Application date: Jul. 15, 1998
Publication date: Jan. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 基板表面の凹凸に対する追従性に優れ、真空ラミネート後の感度変化がなく、露光までのホールドタイムを必要しない、生産性に優れたラミネート方法を提供すること。【解決手段】 カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、チウラムスルフィド類(C)、ロフィン二量体(D)、ロイコ化合物(E)及びp-アミノフェニルケトン類(F)を含有する感光性樹脂組成物からなるフォトレジストフィルムを、真空条件下で基板にラミネートするラミネート方法。
Claim (excerpt):
カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、下記(I)式で示されるチウラムスルフィド類(C)、ロフィン二量体(D)、ロイコ化合物(E)及びp-アミノフェニルケトン類(F)を含有する感光性樹脂組成物からなるフォトレジストフィルムを、真空条件下で基板にラミネートすることを特徴とするラミネート方法。【化1】ここで、R1、R2、R3、R4は同じでも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基のいずれかを表し、又、R1、R2及びR3、R4はそれと結合している窒素原子と共に非金属原子からなる環を構成していてもよい。nは1〜10の整数を表す。
IPC (4):
G03F 7/031
, B29C 63/02
, G03F 7/004 512
, G03F 7/16
FI (4):
G03F 7/031
, B29C 63/02
, G03F 7/004 512
, G03F 7/16
F-Term (31):
2H025AA01
, 2H025AB11
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC51
, 2H025CA01
, 2H025CA03
, 2H025CA28
, 2H025CA31
, 2H025CB43
, 2H025CC14
, 2H025EA08
, 4F211AA21
, 4F211AA34
, 4F211AD03
, 4F211AD05
, 4F211AD08
, 4F211AG02
, 4F211AG03
, 4F211AH36
, 4F211AM28
, 4F211SA07
, 4F211SC06
, 4F211SD01
, 4F211SH06
, 4F211SH22
, 4F211SN12
, 4F211SP04
, 4F211SP21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開昭61-087147
-
感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-158664
Applicant:日本合成化学工業株式会社
-
感光性樹脂組成物及びその用途
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-207562
Applicant:日本合成化学工業株式会社
-
感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-170238
Applicant:日本合成化学工業株式会社
-
感光性樹脂組成物、感光性積層体及びフレキシブルプリント板の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-129840
Applicant:日立化成工業株式会社
-
プリント回路板の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-141886
Applicant:日立化成工業株式会社
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特開昭61-087147
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