保護膜および複合成膜装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：永井冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000327310
Publication number (International publication number)：2001195717
Application date： Oct. 26, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】耐腐食性および耐摩耗性に優れた保護膜の提供。【解決手段】磁気ディスク3に対してデータの記録および/または再生を行う磁気ヘッド1に形成され、磁気センサ5の面Bを覆うようにECR-CVD法および/またはIBD法により形成されるDLC膜7と、DLC膜7の上にFCVA(Filtered Cathodic Vacuum Arc)法で形成されて磁気ディスク3に接触する耐摩耗性のta-C膜9とで保護膜を構成したことにより、耐腐食性および耐摩耗性を兼ね備える保護膜を形成するこができる。

Claim (excerpt)：

磁気記録媒体に対してデータの記録および/または再生を行う磁気ヘッドに形成され、ヘッド基板面を覆うように形成される耐腐食膜と、前記耐腐食膜の上に形成されて前記磁気記録媒体に接触する前記耐腐食膜よりも耐摩耗性の高い耐摩耗膜とで構成したことを特徴とする保護膜。

IPC (3)：

G11B 5/60 , G11B 5/187 , G11B 21/21 101

FI (3)：

G11B 5/60 B , G11B 5/187 K , G11B 21/21 101 K

F-Term (13)：

5D042NA02 , 5D042PA10 , 5D042QA03 , 5D042SA03 , 5D111AA13 , 5D111AA24 , 5D111FF01 , 5D111FF39 , 5D111GG09 , 5D111HH08 , 5D111JJ04 , 5D111JJ06 , 5D111KK07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

磁気ヘッドおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-145301 Applicant：日本電気株式会社
枚葉式CVD装置および枚葉式CVD方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-092399 Applicant：アネルバ株式会社
情報記録ディスク用成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-050191 Applicant：アネルバ株式会社

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