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J-GLOBAL ID：200903093496807611

焼結体及びスパッタリングターゲット並びにその製造方法

Inventor： 望月 修 ,  黒澤 聡 ,  高畑 努
Applicant, Patent owner： 東ソー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999286738
Publication number (International publication number)：2001039771
Application date： Oct. 07, 1999
Publication date： Feb. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】 Zn、S、Si及びOからなる焼結体の作製時にクラックや割れが発生せず、製造歩留りが高く、かつ大電力でのスパッタを行っても割れが発生しない光記録媒体の保護膜形成に有用なスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 原料粉末の硫化亜鉛と二酸化ケイ素に、酸化亜鉛を0.5〜5wt%添加し、ホットプレス焼結を行うことにより、製造歩留りが高く、高密度のスパッタリングターゲットを得る。

Claim (excerpt)：

硫化亜鉛及び二酸化ケイ素を主成分とする焼結体において、亜鉛とケイ素の複酸化物をさらに含むことを特徴とする焼結体。

IPC (2)：

C04B 35/547 ,  C23C 14/34

FI (2)：

C04B 35/00 T ,  C23C 14/34 A

F-Term (10)：

4G030AA37 ,  4G030AA56 ,  4G030BA20 ,  4G030BA23 ,  4K029BA46 ,  4K029BA51 ,  4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-273519   Applicant：三菱マテリアル株式会社
• 光学的情報記録媒体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-116757   Applicant：松下電器産業株式会社
• 相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料およびその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-187266   Applicant：同和鉱業株式会社