Pat

J-GLOBAL ID：200903097967086591

高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット材

Inventor： 三島 昭史 ,  森 理恵 ,  渡辺 和男
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 富田 和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999273519
Publication number (International publication number)：2001098361
Application date： Sep. 28, 1999
Publication date： Apr. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用ターゲット材を提供する。【解決手段】 光記録媒体保護層形成用ターゲット材を、重量%で、SiO2:4〜20%、ZnO:20〜35%、必要に応じてAl2O3、Ga2O3、TiO2、MgO、およびNb2O3のうちの1種または2種以上:0.5〜5%、ZnS:残り、の配合組成を有する混合粉末のホットプレス焼結体で構成する。

Claim (excerpt)：

重量%で、酸化けい素:4〜20%、酸化亜鉛:20〜35%、硫化亜鉛:残り、の配合組成を有する混合粉末のホットプレス焼結体で構成したことを特徴とする、高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット材。

IPC (2)：

C23C 14/34 ,  G11B 7/26

FI (2)：

C23C 14/34 A ,  G11B 7/26

F-Term (11)：

4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC21 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE13 ,  5D121EE14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 光ディスク保護膜形成スパッタリングターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-188104   Applicant：株式会社日鉱マテリアルズ
• 光記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-146003   Applicant：株式会社リコー
• 相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料およびその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-187266   Applicant：同和鉱業株式会社
• 耐割損性のすぐれた半導体装置の誘電薄膜形成用スパッタリング焼結ターゲット材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-171123   Applicant：三菱マテリアル株式会社
• 光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-307466   Applicant：三菱マテリアル株式会社