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J-GLOBAL ID：200903093507102038

基板処理装置

Inventor：
上田 一成

About 上田 一成


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000195646
Publication number (International publication number)：2001077176
Application date： Jun. 29, 2000
Publication date： Mar. 23, 2001
Summary：
【要約】【課題】 装置の複雑化を招くことなく、基板の処理能力を向上させることができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】 処理ステーション11内の複数の処理ユニット間でウエハWを搬送する際に、通常時にカセットステーション10やインターフェイス部12内でウエハWを搬入出する従ウエハ搬送装置21,24が通常動作をしていない時に、これら従ウエハ搬送装置21,24によって、処理ステーション11内の複数の処理ユニット間でウエハWを搬送し、主ウエハ搬送装置46の搬送工程の一部を補助する。
Claim (excerpt)：
基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、基板を搬入出する基板搬入出部と、基板に各種処理を施す複数の処理ユニットが上下方向に積層して配置された処理部と、この処理部内に上下方向移動自在に配置され、一つの処理ユニットから他の処理ユニットに基板を搬送するための主搬送装置と、前記基板搬入出部内に上下方向移動自在に配置され、この基板搬入出部と前記処理部との間で基板の受け渡しをするとともに、この基板受け渡しを行なっていないタイミングで前記処理部内の一つの処理ユニットから他の処理ユニットに基板を搬送する従搬送装置とを具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/027
FI (3)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 D
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 処理方法及び塗布現像処理システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-252316   Applicant：東京エレクトロン株式会社
  • 処理システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-257596   Applicant：東京エレクトロン株式会社
Cited by examiner (2)
  • 処理方法及び塗布現像処理システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-252316   Applicant：東京エレクトロン株式会社
  • 処理システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-257596   Applicant：東京エレクトロン株式会社

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