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J-GLOBAL ID：200903024684979398

処理システム

Inventor：
飽本 正巳

About 飽本 正巳


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996257596
Publication number (International publication number)：1998084029
Application date： Sep. 06, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：
【要約】【課題】 ウエハ対して液処理を行う液処理装置と、その後に加熱する加熱処理装置と、搬送手段とを有する処理システムにおいて、スペースの縮小化、スループットの向上を図ると共に、パーティクルの発生を抑える。【解決手段】 ウエハに対してレジスト塗布装置41での処理が終了した後に行うべき加熱処理を実施するベーキング装置45、46を、冷却装置42、43、44を間に介在させて、レジスト塗布装置41の上方に積層させる。メイン搬送アーム47は、これら各処理装置の間でウエハWを搬送可能なように構成する。
Claim (excerpt)：
回転する被処理基板に対し所定の液を供給して処理を行う液処理装置と、被処理基板に対し所定の加熱処理を行う加熱処理装置と、被処理基板に対し所定の冷却処理を行う冷却処理装置と、これら各処理装置に対して被処理基板を搬入出するための搬送手段とを備えた処理システムであって、前記液処理装置での処理が終了した後に行うべき加熱処理を実施する加熱処理装置は、前記冷却処理装置を間に介在させて当該液処理装置の上に積み重ねられ、これら各処理装置は処理ユニット化され、前記搬送手段はこの処理ユニットにおける各処理装置に対して進退自在、かつZ方向に上下動自在、かつX-Y平面においてθ方向に回転自在であることを特徴とする、処理システム。
IPC (3)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341
FI (4)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 569 D
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-343898   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 搬送方法及び搬送装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-046413   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 特開平4-003955
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Cited by examiner (8)
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-343898   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 搬送方法及び搬送装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-046413   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 特開平4-003955
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