Pat
J-GLOBAL ID:200903093622875121
垂直磁気記録媒体の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003021541
Publication number (International publication number):2004234746
Application date: Jan. 30, 2003
Publication date: Aug. 19, 2004
Summary:
【課題】高記録密度の垂直磁気記録媒体であって、ロードアンロード(LUL)時の衝撃等による、クラッシュ障害が起こり難いものを、低コストで短時間に製造する方法を提供する。【解決手段】ガラスディスクからなり平滑な表面を有する非磁性ディスク基板1をスパッタ装置内に設置し、クリプトンおよび/またはキセノン雰囲気下において、DCマグネトロンスパッタリング法にてCoTaZrの軟磁性層2を形成し、次に、アルゴン雰囲気下において、DCマグネトロンスパッタリング法にて、Tiの非磁性下地層3、CoCrPtの垂直磁気記録層4、水素化炭素の保護層5を順次成膜し、最後に、パーフロロポリエーテルの潤滑層6をディップコート法により形成し、垂直磁気記録媒体を製造した。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板上に軟磁性層と垂直磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法であって、
アルゴンよりも原子半径の大きな希ガスを含む雰囲気の下で、マグネトロンスパッタリングにより、前記軟磁性層を製造することを特徴とする、垂直磁気記録媒体の製造方法。
IPC (4):
G11B5/851
, C23C14/34
, G11B5/667
, G11B5/738
FI (4):
G11B5/851
, C23C14/34 P
, G11B5/667
, G11B5/738
F-Term (25):
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA17
, 4K029BA24
, 4K029BA26
, 4K029BA34
, 4K029BB02
, 4K029BC06
, 4K029BD11
, 4K029CA05
, 4K029EA05
, 5D006BB02
, 5D006BB06
, 5D006CA03
, 5D006CA05
, 5D006DA08
, 5D006EA03
, 5D006FA02
, 5D006FA07
, 5D112AA03
, 5D112AA04
, 5D112AA05
, 5D112FA04
, 5D112FB14
, 5D112FB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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磁気記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-252253
Applicant:ソニー株式会社
-
スパッタ膜、液晶素子及びこれらの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-074793
Applicant:キヤノン株式会社
-
磁気ヘッド及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-256784
Applicant:三洋電機株式会社
-
特開平4-274026
-
特開平2-263982
-
特開昭63-140509
-
磁気記録媒体及び磁気記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-133878
Applicant:日立マクセル株式会社
-
磁気記録媒体及び磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-105946
Applicant:日立マクセル株式会社
-
磁気記録媒体、磁気記録装置および磁気記録方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-197771
Applicant:株式会社東芝
-
磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-271236
Applicant:日立マクセル株式会社, 株式会社日立製作所
-
成膜用の基板支持装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-017353
Applicant:アネルバ株式会社
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