Pat
J-GLOBAL ID:200903093622875121

垂直磁気記録媒体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003021541
Publication number (International publication number):2004234746
Application date: Jan. 30, 2003
Publication date: Aug. 19, 2004
Summary:
【課題】高記録密度の垂直磁気記録媒体であって、ロードアンロード(LUL)時の衝撃等による、クラッシュ障害が起こり難いものを、低コストで短時間に製造する方法を提供する。【解決手段】ガラスディスクからなり平滑な表面を有する非磁性ディスク基板1をスパッタ装置内に設置し、クリプトンおよび/またはキセノン雰囲気下において、DCマグネトロンスパッタリング法にてCoTaZrの軟磁性層2を形成し、次に、アルゴン雰囲気下において、DCマグネトロンスパッタリング法にて、Tiの非磁性下地層3、CoCrPtの垂直磁気記録層4、水素化炭素の保護層5を順次成膜し、最後に、パーフロロポリエーテルの潤滑層6をディップコート法により形成し、垂直磁気記録媒体を製造した。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板上に軟磁性層と垂直磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法であって、 アルゴンよりも原子半径の大きな希ガスを含む雰囲気の下で、マグネトロンスパッタリングにより、前記軟磁性層を製造することを特徴とする、垂直磁気記録媒体の製造方法。
IPC (4):
G11B5/851 ,  C23C14/34 ,  G11B5/667 ,  G11B5/738
FI (4):
G11B5/851 ,  C23C14/34 P ,  G11B5/667 ,  G11B5/738
F-Term (25):
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA17 ,  4K029BA24 ,  4K029BA26 ,  4K029BA34 ,  4K029BB02 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029EA05 ,  5D006BB02 ,  5D006BB06 ,  5D006CA03 ,  5D006CA05 ,  5D006DA08 ,  5D006EA03 ,  5D006FA02 ,  5D006FA07 ,  5D112AA03 ,  5D112AA04 ,  5D112AA05 ,  5D112FA04 ,  5D112FB14 ,  5D112FB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (17)
Show all

Return to Previous Page