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J-GLOBAL ID:200903093659399036

高COD,高窒素化合物含有液状廃棄物の処理方法及び処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 重野 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995249097
Publication number (International publication number):1997085291
Application date: Sep. 27, 1995
Publication date: Mar. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】 高倍率の希釈を施すことなく、極めて簡便な方法で、写真廃液等の高COD,高窒素化合物含有液状廃棄物のCOD値及びTOC値の低減並びに窒素化合物の除去を行う。【解決手段】 過酸化水素を用いた化学処理、活性炭共存下の生物処理及び生物学的脱窒処理を行う。【効果】 被酸化性物質が化学処理で酸化されることによりCOD値が低下する。化学処理及び生物活性炭処理により、有機物質が二酸化炭素に酸化されることによりTOC値が低下する。アンモニアが生物処理で硝化され、更に生物学的脱窒処理で窒素ガスに変換されることにより、窒素化合物が除去される。化学処理と、生物活性炭処理と、生物学的脱窒処理との組み合せで、COD値、TOC値及び窒素化合物濃度を効率的に低減できる。
Claim (excerpt):
高COD,高窒素化合物含有液状廃棄物を処理する方法において、過酸化水素を用いた化学処理と、活性炭共存下の生物処理と、生物学的脱窒処理とを行うことを特徴とする高COD,高窒素化合物含有液状廃棄物の処理方法。
IPC (9):
C02F 3/34 101 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/72 ZAB ,  C02F 3/12 ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (9):
C02F 3/34 101 Z ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/72 ZAB Z ,  C02F 3/12 B ,  C02F 9/00 501 C ,  C02F 9/00 501 H ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 504 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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