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J-GLOBAL ID:200903093920004222

X線用マスクのペリクルの構造およびその製造

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂口 博 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000172901
Publication number (International publication number):2001028334
Application date: Jun. 09, 2000
Publication date: Jan. 30, 2001
Summary:
【要約】【課題】 X線マスク面積の増大、X線マスクの膜および取り付け材料の範囲拡大、および製造の精度の向上が実現される、膜および硬質スペーサ型ペリクル構造を提供する。【解決手段】 X線マスクとパターン形成される酸化物との間の間隙の厚みを有するバルク・スペーサ材料の上に、酸化物層がパターン形成される。バルク・スペーサ材料上の酸化物は、バルク・スペーサ材料のウエーハの、露出した表面を介して、バルク・スペーサ材料と異なるエッチング特性へのスペーサとして機能するウエーハの部分の変換を防止する。露出したバルク・スペーサ材料のウエーハは、スペーサとして機能し、縁部を保護する深さまで変換される。次に酸化物を除去する。膜をバルク・スペーサ材料の表面全体に付着させる。バルク・ウエーハを、与えられた異なるエッチング特性を利用して、変換された部分まで除去する。
Claim (excerpt):
吸収パターン領域を含むX線マスクから間隙を置いて膜部材を位置決めし、前記X線マスクを汚染から保護するためのペリクル部材であって、ワッシャ型のスペーサ部材上に、膜部材のアセンブリを組み合わせて有し、前記スペーサ部材は、第1および第2のほぼ平行な表面と、前記吸収パターンを収納するのに十分な寸法を有し、前記スペーサ部材を貫通する中央開口と、前記間隙とほぼ同じ前記ワッシャ型のスペーサ部材周辺における、前記第1および第2のほぼ平行な表面間の第1の厚み寸法と、前記中央開口縁部における、前記第1および第2のほぼ平行な表面間の第2の厚み寸法とを有し、前記膜部材は、前記スペーサ部材の前記第2のほぼ平行な表面の領域全体に密接に接触し、取り付けられている、ペリクル部材。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 1/16
FI (2):
H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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