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J-GLOBAL ID：200903094282719266

空気清浄装置及びこれを使用した空気清浄方法

Inventor：
西井 由和

About 西井 由和


Applicant, Patent owner：
HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社

About HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003128330
Publication number (International publication number)：2004329499
Application date： May. 06, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：
【課題】高性能の脱臭機能と高性能の揮発性有機化合物の除去機能を有する空気清浄装置及びこれを使用した空気清浄方法を提供する。【解決手段】第1の流路に、被処理ガスを含む空気を通過させて、被処理ガスを吸着・濃縮させる被処理ガス吸着濃縮部を設けて、清浄な空気を送出させる空気清浄装置であって、第1流路とは別の第2流路に、前記被処理ガス吸着濃縮部と脱離ガス分解除去部を設け、清浄な空気を前記被処理ガス吸着濃縮部に流して、前記被処理ガス吸着濃縮部内蔵の被処理ガス脱離部により前記被処理ガス吸着濃縮部に吸着濃縮された被処理ガスが脱離され、この脱離された被処理ガスを含む空気が脱離ガス分解除去部に流れて、脱離された被処理ガスが分解除去される。その結果、第1の流路の被処理ガス吸着濃縮部を再生処理することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
第1の流路に、被処理ガスを含む空気を通過させて、前記被処理ガスを物理的に吸着させると共に、濃縮させる被処理ガス吸着濃縮部を設けて、この被処理ガス吸着濃縮部を通して、被処理ガスを除去した空気を送出させる空気清浄装置において、 前記第1の流路とは別に設けた第2の流路に、前記第1の流路における前記被処理ガスを含む空気と比較して清浄な空気を前記被処理ガス吸着濃縮部に流して、前記被処理ガス吸着濃縮部の内部に前記吸着・濃縮された被処理ガスが脱離されるための被処理ガス脱離部を設け、かつ、この被処理ガス脱離部により脱離された被処理ガスを含む空気を流して、前記脱離された被処理ガスが分解除去されるための脱離ガス分解除去部を設けたことを特徴とする空気清浄装置。
IPC (8)：
A61L9/16 ,  A61L9/00 ,  A61L9/01 ,  A61L9/20 ,  B01D53/86 ,  B01J35/02 ,  F24F3/16 ,  F24F7/00
FI (10)：
A61L9/16 D ,  A61L9/00 C ,  A61L9/01 B ,  A61L9/20 ,  B01J35/02 J ,  F24F3/16 ,  F24F7/00 A ,  B01D53/36 J ,  B01D53/36 G ,  B01D53/36 H
F-Term (34)：
3L053BD01 ,  3L053BD04 ,  4C080AA05 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080HH05 ,  4C080KK08 ,  4C080MM02 ,  4C080MM04 ,  4C080MM05 ,  4C080QQ12 ,  4C080QQ20 ,  4D048AA21 ,  4D048AA22 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB05 ,  4D048AC07 ,  4D048BA07X ,  4D048BB08 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14B ,  4G069BA20B ,  4G069BA48A ,  4G069CA01 ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069EA03X ,  4G069EA03Y
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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