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J-GLOBAL ID:200903094570795120

X線顕微鏡

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997329043
Publication number (International publication number):1999160500
Application date: Nov. 28, 1997
Publication date: Jun. 18, 1999
Summary:
【要約】【課題】 紫外光を容易に導入することができ、高精度な観察試料の顕微像を得ることのできる、製造も容易な、新しい紫外光アシストのX線顕微鏡を提供する。【解決手段】X線および紫外光を観察試料に照射して観察試料の顕微像を得るX線顕微鏡において、ピンホール(21)を有するピンホール付ミラ(2)ーによって、X線および紫外光が同一光学軸上に通されて、観察試料の同一領域に照射される。
Claim (excerpt):
X線および紫外光を観察試料に照射して観察試料の顕微像を得るX線顕微鏡において、ピンホールを有するピンホール付ミラーによって、X線および紫外光が同一光学軸上に通されて、観察試料の同一領域に照射されることを特徴とするX線顕微鏡。
IPC (2):
G21K 7/00 ,  G01N 23/04
FI (2):
G21K 7/00 ,  G01N 23/04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • X線顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-347083   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • X線顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-023753   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • 軟X線顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-304131   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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