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J-GLOBAL ID：200903094727657401

荷電粒子ビーム装置における収差補正方法および荷電粒子ビーム装置

Inventor：
松谷 幸

About 松谷 幸

, 
宇野 忍

About 宇野 忍


Applicant, Patent owner：
日本電子株式会社

About 日本電子株式会社


Agent (2)： 井島 藤治 ,  鮫島 信重
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003162527
Publication number (International publication number)：2004363045
Application date： Jun. 06, 2003
Publication date： Dec. 24, 2004
Summary：
【課題】ノイズの影響が少なく、高加速電圧側における装置の耐圧や、低加速電圧側での補正電位の問題を解決し、安定かつ最適な収差補正を行うことができる荷電粒子ビーム装置の収差補正方法および荷電粒子ビーム装置を実現する。【解決手段】4段の静電型4極子1〜4と、該4極子の中央の2段の静電型4極子2,3は、その電位分布と相似な磁位分布を重畳させる2段の磁場型4極子として機能する。対物レンズ7と、荷電粒子ビームの光路に設けられた対物絞り8と、加速電圧や対物レンズと試料間の作動距離を変更する操作部9と、操作部の操作に基づいて前記各4極子を制御する制御部19が備えられており、加速電圧や作動距離を変更したとき、4段の静電型4極子1〜4と該4極子1〜4の後段に設けられた対物レンズとの合成倍率を調整して、3次の開口収差を補正するための複数種の8極子電位の内、少なくとも1種の8極子電位を一定に保つようにしている。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
4段の静電型4極子と、4段の静電型4極子の中央の2段の静電型4極子の電位分布と相似な磁位分布を重畳させる2段の磁場型4極子と、荷電粒子ビームを試料にフォーカスさせる対物レンズと、荷電粒子ビームの光路の一部に設けられた対物絞りと、荷電粒子ビームの加速電圧や対物レンズと試料間の距離である作動距離を変更する操作部と、操作部の操作または設定に基づいて前記各4極子を制御する制御部を備えた荷電粒子ビーム装置における収差補正装置において、前記加速電圧や作動距離を変更したとき、4段の静電型4極子と4段の静電型4極子の後段に設けられた対物レンズとの合成倍率を調整して、3次の開口収差を補正するための複数種の8極子電位の内、少なくとも1種の8極子電位を一定に保つようにした荷電粒子ビーム装置における収差補正方法。
IPC (1)：
H01J37/153
FI (2)：
H01J37/153 B ,  H01J37/153 A
F-Term (4)：
5C033HH05 ,  5C033HH06 ,  5C033JJ01 ,  5C033JJ07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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