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J-GLOBAL ID:200903094769956549
リソグラフィシステムにおけるユーティリティ輸送システム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006543953
Publication number (International publication number):2007514319
Application date: Dec. 06, 2004
Publication date: May. 31, 2007
Summary:
リソグラフィシステムにおいて、ステージに影響を与える物理的な外乱を最小化しながら、レチクルステージ又はウエハステージにあるいはレチクルステージ又はウエハステージからユーティリティを輸送する技術が記述される。これらの技術は、ステージと物理的に接触することなく、ステージに又はステージからユーティリティを輸送することを含む。また、ユーティリティは、ステージが静止位置にある間に、ステージと物理的に接触することによって輸送される。ステージに又はステージからユーティリティを輸送することに加えて、処理装置、バッファ(記憶媒体)、電気構成要素、及び機械構成要素をステージ内に配置して、輸送されたユーティリティを使用又は制御することができる。
Claim (excerpt):
照明源と;
光学系と;
ウエハ又はレチクルを支持するのに適したステージと;
前記ステージを支持するフレームと;
前記ステージの内部又はその表面に配置され、前記ステージと前記フレームとの間でユーティリティを輸送するステージユーティリティ輸送手段と;
前記フレームの内部又はその表面に配置され、前記ステージと前記フレームとの間でユーティリティを輸送するフレームユーティリティ輸送手段と、を備え、
前記ステージと前記フレームとの間でユーティリティが輸送される間、前記ステージ及び前記フレームを、互いに物理的に離れたままにできる、リソグラフィシステム。
IPC (3):
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01L 21/683
FI (4):
H01L21/30 515F
, G03F7/20 521
, H01L21/30 515G
, H01L21/68 N
F-Term (9):
5F031CA02
, 5F031CA07
, 5F031HA55
, 5F031HA56
, 5F031PA26
, 5F031PA30
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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ステージ装置および露光装置ならびにディバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-030447
Applicant:キヤノン株式会社
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半導体製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-325858
Applicant:キヤノン株式会社
Cited by examiner (1)
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