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J-GLOBAL ID:200903095016927089

防汚剤、防汚層の形成方法、光学部材、反射防止光学部材、光学機能性部材及び表示装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999018601
Publication number (International publication number):2000144097
Application date: Jan. 27, 1999
Publication date: May. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】 種々の被処理基材、特に、反射防止膜等の光学部材の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れが付着することを防止し、付着した場合には容易に拭き取れる優れた防汚性の防汚層を、高い耐久性で形成し得る防汚剤を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物を含有する防汚剤である。【化1】(上記般式(1)中、Rf2は炭素数1〜16の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、R2 は加水分解基、Zは-OOCNH-又は-O-であり、n2は1〜50の整数、m2は0〜3の整数、l2は0〜3の整数、s2は1〜6の整数であり、6≧m2+l2>0である。)
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物を含有する防汚剤。【化1】(上記一般式(1)中、Rf2は炭素数1〜16の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、R2 は加水分解基、Zは-OOCHN-又は-O-であり、n2は1〜50の整数、m2は0〜3の整数、l2は0〜3の整数、s2は1〜6の整数であり、6≧m2+l2>0である。)
IPC (8):
C09K 3/00 112 ,  C09K 3/00 ,  B32B 27/18 ,  C09D 5/16 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  C07F 7/18 ,  C09D171/00
FI (8):
C09K 3/00 112 E ,  C09K 3/00 112 F ,  B32B 27/18 Z ,  C09D 5/16 ,  C07F 7/18 G ,  C09D171/00 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
F-Term (52):
2K009AA00 ,  2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB02 ,  2K009BB12 ,  2K009BB13 ,  2K009BB14 ,  2K009BB22 ,  2K009BB24 ,  2K009BB28 ,  2K009CC02 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD03 ,  2K009DD04 ,  2K009DD06 ,  2K009EE05 ,  4F100AG00A ,  4F100AH05 ,  4F100AH06 ,  4F100AK01A ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100CA30C ,  4F100EH46 ,  4F100EH66 ,  4F100GB90 ,  4F100JL06 ,  4F100JL06C ,  4F100JN01A ,  4F100JN10D ,  4F100JN30B ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ38 ,  4H049VR20 ,  4H049VR40 ,  4H049VU21 ,  4H049VU28 ,  4H049VW02 ,  4J038DF012 ,  4J038EA011 ,  4J038GA15 ,  4J038JC32 ,  4J038PB08 ,  4J038PC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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