沈殿により化合物を製造するための装置及び方法

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (8)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , 杉本博司 , 星公弘 , 二宮浩康 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009502023
Publication number (International publication number)：2009531173
Application date： Mar. 20, 2007
Publication date： Sep. 03, 2009
Summary：

本発明は、溶液から固体を沈殿させることにより化合物を製造するための装置及び方法に関するものであり、その際に、沈殿の際に形成する固体の粒子の物理的及び化学的な性質が極めてフレキシブルに及び互いに独立して調節されることができ、ひいては極めて高い空時収率を有するテーラーメードの生成物が製造され、並びに20m2/g未満のBET表面積及び2.4g/cm3超のタップ密度を有する一般式NixCo1-x(OH)2の粉末状Ni,Co混合水酸化物に関する。

Claim (excerpt)：

反応器中での沈殿により化合物を製造するための装置であって、前記反応器が、傾いた傾斜板沈降装置(Schraegklaerer)を有することを特徴とする、反応器中での沈殿による化合物を製造するための装置。

IPC (5)：

B01J 19/24 , B01D 21/02 , B01D 21/30 , C01G 53/00 , H01M 4/52

FI (7)：

B01J19/24 Z , B01D21/02 F , B01D21/30 G , B01D21/30 Z , B01D21/02 J , C01G53/00 A , H01M4/52 101

F-Term (28)：

4G048AA03 , 4G048AB02 , 4G048AC06 , 4G048AD03 , 4G048AE05 , 4G075AA27 , 4G075BB05 , 4G075BB08 , 4G075BD15 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EC25 , 5H050AA19 , 5H050BA11 , 5H050BA15 , 5H050CA04 , 5H050CA08 , 5H050FA17 , 5H050GA11 , 5H050GA12 , 5H050GA29 , 5H050HA02 , 5H050HA04 , 5H050HA05 , 5H050HA07 , 5H050HA08 , 5H050HA10 , 5H050HA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

反応装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-271320 Applicant：旭化成工業株式会社
特開平4-219315
ポリエステル製造用触媒およびそれを用いるポリエステルの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-236095 Applicant：三菱化学株式会社

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