Pat

J-GLOBAL ID：200903095175619654

合成ガスの製造方法

Inventor： 二タ村 森 ,  椛島 一
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002266694
Publication number (International publication number)：2004099407
Application date： Sep. 12, 2002
Publication date： Apr. 02, 2004
Summary：

【課題】水と二酸化炭素から、簡便に合成ガスを高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】水と二酸化炭素から合成ガスを製造する方法において、該酸化還元反応を低温プラズマ下で行う。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

水と二酸化炭素の酸化還元反応による合成ガスの製造方法において、該酸化還元反応を低温プラズマ下で行うことを特徴とする合成ガスの製造方法。

IPC (2)：

C01B3/04 ,  C01B3/12

FI (2)：

C01B3/04 R ,  C01B3/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• プラズマ気相反応による二酸化炭素を可燃性ガスへ転化する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-214600   Applicant：コロナ株式会社
• 二酸化炭素を含む水から、水素、一酸化炭素および炭化水素系物質の合成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-152394   Applicant：福井県
• 半導体光触媒を用いた水素及び酸素の製造方法、及び水素、酸素及び一酸化炭素の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-306118   Applicant：工業技術院長
• 低温プラズマによる合成ガスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-331620   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
• 低温プラズマによる水素の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-153165   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 低温プラズマによるH2O-CO2からH2/COへの変換