マイクロ波プラズマトーチ装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：曾我道照 , 曾我道治 , 古川秀利 , 鈴木憲七 , 梶並順
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003091470
Publication number (International publication number)：2004303439
Application date： Mar. 28, 2003
Publication date： Oct. 28, 2004
Summary：

【課題】同軸導波管の同軸性の向上をすることができ、また、位置制御動作の改善がされたマイクロ波プラズマトーチ装置を得る。【解決手段】内導体2の先端部と外導体3を共に絞り、外導体3はその直径が狭められて外導体制限部8を有する同軸導波管31と、マイクロ波1を供給するマイクロ波発振器と、内導体2に接続され、外導体3に対して同軸方向に移動させるアクチュエータ15と、マイクロ波1の反射電力を計測する方向性結合器33と、反射電力の最小を制御目標として、アクチュエータ15に動作指令を出力し、内導体2と外導体3の相互位置を最適位置に調整する制御器19とを備え、供給されたプラズマ波電力によってガスを電離してプラズマトーチを生成する装置であって、外導体3と、アクチュエータ15と、外導体制限部8が、それぞれ位置あおり調整機構12,14,18によって支持されている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

同軸状に配置された内導体及び外導体からなり、該内導体は先端部を尖らせて内導体電極部を形成し、該外導体は先端部において直径が狭められて外導体制限部を形成する同軸導波管と、前記同軸導波管にマイクロ波を供給するマイクロ波発振器と、前記内導体及び前記外導体のいずれか一方に接続され、他方に対して軸方向に移動させるアクチュエータと、マイクロ波の反射電力を計測する方向性結合器と、前記方向性結合器から得られる前記反射電力の最小を制御目標として、前記アクチュエータに動作指令を出力し、前記内導体電極部と前記外導体制限部の相互位置が最適位置となるよう位置制御する制御手段とを備え、前記内導体電極部と前記外導体制限部との間で、供給されたマイクロ波電力によってガスを電離してプラズマトーチを生成するマイクロ波プラズマトーチ装置において、前記内導体及び前記外導体のうち前記アクチュエータと接続されないものと、前記アクチュエータと、前記外導体制限部とが、それぞれ位置あおり調整機構によって支持されていることを特徴とするマイクロ波プラズマトーチ装置。

IPC (4)：

H05H1/30 , B01J19/08 , F27D11/08 , F27D11/12

FI (4)：

H05H1/30 , B01J19/08 E , F27D11/08 E , F27D11/12

F-Term (14)：

4G075AA24 , 4G075AA37 , 4G075AA62 , 4G075BA05 , 4G075BC01 , 4G075CA26 , 4G075DA02 , 4G075EB43 , 4G075ED06 , 4G075EE01 , 4K063AA04 , 4K063BA13 , 4K063FA56 , 4K063FA82

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平3-057199
プラズマ質量分析計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-243844 Applicant：株式会社日立製作所
特開平3-133099

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Cited by examiner (4)

特開平3-057199
プラズマ質量分析計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-243844 Applicant：株式会社日立製作所
特開平3-133099

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