積層構造体及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中島淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999337616
Publication number (International publication number)：2000239827
Application date： Nov. 29, 1999
Publication date： Sep. 05, 2000
Summary：

【要約】【課題】耐酸化性、耐塩素性、耐湿性、高屈折率、高光透過率等に優れた炭化ケイ素質被覆層を有することにより、特にCD-RW、DVD-RAM等の光ディスクの記録媒体に好適な積層構造体を提供する。【解決手段】合金基材上に、スパッタリングにより形成された炭化ケイ素質被覆層を有し、該炭化ケイ素質被覆層の光透過率が70%以上であることを特徴とする積層構造体である。合金基材が、磁性合金又は相変化合金である態様、炭化ケイ素質被覆層の表面に存在する不純物の比率が1.0×1012atoms/cm2以下である態様、炭化ケイ素質被覆層の厚みが10〜100nmである態様、などが好ましい。

Claim (excerpt)：

合金基材上に、スパッタリングにより形成された炭化ケイ素質被覆層を有し、該炭化ケイ素質被覆層の光透過率が70%以上であることを特徴とする積層構造体。

IPC (7)：

C23C 14/06 , C23C 14/34 , G11B 7/24 511 , G11B 7/24 534 , G11B 7/24 535 , G11B 7/24 , G11B 7/26 531

FI (8)：

C23C 14/06 B , C23C 14/34 U , C23C 14/34 A , G11B 7/24 511 , G11B 7/24 534 J , G11B 7/24 535 C , G11B 7/24 535 G , G11B 7/26 531

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平1-251358
炭化ケイ素膜付きガラス基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-327792 Applicant：ホーヤ株式会社
炭化ケイ素焼結体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-041048 Applicant：株式会社ブリヂストン

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