炭化ケイ素膜付きガラス基板

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中村静男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994327792
Publication number (International publication number)：1996183635
Application date： Dec. 28, 1994
Publication date： Jul. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】マスクのアライメント精度やマスク転写パターンの寸法精度が向上したX線マスクもしくは位相シフトマスク、あるいは記録密度が向上した光磁気記録媒体を作製するのに好適な炭化ケイ素膜付きガラス基板を提供する。【構成】本発明の炭化ケイ素膜付きガラス基板は、ガラス基板と、このガラス基板の片面上または両面上に設けられた炭化ケイ素膜とを備え、前記炭化ケイ素膜における膜厚分布が式(tmax-tmin)/tave ≦0.03を満たし、屈折率分布が式(nmax-nmin)/nave ≦0.03を満たし、表面粗さRaが式Ra≦3nmを満たすことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

ガラス基板と、このガラス基板の片面上または両面上に設けられた炭化ケイ素膜とを備え、前記炭化ケイ素膜における膜厚分布が式(tmax-tmin)/tave ≦0.03を満たし、屈折率分布が式(nmax-nmin)/nave≦0.03を満たし、表面粗さRaが式Ra≦3nmを満たすことを特徴とする炭化ケイ素膜付きガラス基板。

IPC (3)：

C03C 17/245 , C30B 29/36 , G11B 11/10 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-280840
特開平4-210476
光記録媒体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-067205 Applicant：キヤノン株式会社

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