Pat
J-GLOBAL ID:200903095859503744
パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
谷 義一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000258234
Publication number (International publication number):2001338304
Application date: Aug. 28, 2000
Publication date: Dec. 07, 2001
Summary:
【要約】【課題】 検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。【解決手段】 検査対象パターンの画像から第1のエッジを検出する。第1のエッジと第1の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターン画像と基準パターンとのマッチングを行う。求まったシフト量S1を用いて第1の基準パターンをシフトする。第1のエッジとシフトした第1の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターンを検査する。パターン変形量の1つとしてシフト量S2が求まる。第2の基準パターンをシフト量S1+S2分シフトする。シフトした第2の基準パターンを用いて、検査対象パターン画像上でプロファイルを求め、第2のエッジを検出する。第2のエッジとシフトした第2の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターンを検査する。パターン変形量の1つとしてシフト量S3が求まる。
Claim (excerpt):
検査対象パターンを基準パターンと比較して検査するパターン検査装置であって、前記基準パターンを記憶する記憶手段と、前記検査対象パターンの画像を入力する入力手段と、前記入力された検査対象パターンの画像のエッジと前記記憶された基準パターンのエッジとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段と、前記検査の結果を出力する出力手段とを備えたことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (6):
G06T 7/60 300
, G01B 11/24
, G01N 21/956
, G03F 1/08
, G06T 1/00 305
, H01L 21/66
FI (7):
G06T 7/60 300 A
, G01N 21/956 A
, G03F 1/08 S
, G06T 1/00 305 A
, H01L 21/66 J
, G01B 11/24 K
, G01B 11/24 F
F-Term (53):
2F065AA12
, 2F065AA56
, 2F065BB02
, 2F065CC17
, 2F065DD06
, 2F065FF04
, 2F065PP24
, 2F065QQ04
, 2F065QQ18
, 2F065QQ24
, 2F065QQ27
, 2F065QQ31
, 2F065QQ38
, 2F065RR08
, 2F065SS06
, 2F065SS13
, 2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051AC21
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EC01
, 2G051ED15
, 2H095BD01
, 2H095BD28
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA03
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106DB05
, 4M106DB21
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CE04
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DC16
, 5B057DC33
, 5L096BA03
, 5L096EA02
, 5L096FA06
, 5L096HA07
, 5L096JA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
外観検査方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-247637
Applicant:富士通株式会社
-
パターン検査方法及びパターン検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-124044
Applicant:日本アビオニクス株式会社
-
図面データ管理システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-013976
Applicant:積水化学工業株式会社
-
自動フォトマスク検査装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-177462
Applicant:ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション
-
特開平4-194702
-
特開昭63-088682
Show all
Return to Previous Page