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J-GLOBAL ID:200903095940098447

グレートーンマスク及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤村 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000386093
Publication number (International publication number):2002189281
Application date: Dec. 19, 2000
Publication date: Jul. 05, 2002
Summary:
【要約】【課題】 半透光膜の膜厚の均一性が高いグレートーンマスクを容易に得ることができる製造方法等を提供する。【解決手段】 例えば、透明基板11上に、半透光膜12(CrO等)、エッチングストッパー膜13(SiO2等)、遮光膜14(Cr等)、レジスト膜15を順次形成し、透光部を形成すべき部分(エリアC)上のレジスト膜15を除去してこの部分上の遮光膜14及びエッチングストッパー膜13を除去し、次いで、半透光部を形成すべき部分(エリアA)上のレジストを除去してこの部分上の遮光膜14を除去して半透光部を形成し、エリアC上の半透光膜12を除去して透光部を形成して、グレートーンマスクを製造する。
Claim (excerpt):
遮光部と、透光部と、露光光の一部を透過するグレートーン部とを有するグレートーンマスクにおいて前記遮光部が、透明基板上に順次形成された半透光膜、エッチングストッパー膜、遮光膜を含み、前記グレートーン部が、前記透明基板上に形成された半透光膜あるいは半透光膜及びエッチングストッパー膜を含むことを特徴とするグレートーンマスク。
IPC (2):
G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501
FI (2):
G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 501
F-Term (6):
2H095BB03 ,  2H095BB14 ,  2H095BC05 ,  2H095BC24 ,  2H097AB09 ,  2H097LA12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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