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J-GLOBAL ID：200903072378872665
位相シフト露光マスク及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995213612
Publication number (International publication number)：1997061987
Application date： Aug. 22, 1995
Publication date： Mar. 07, 1997
Summary：
【要約】【構成】 ハーフトーン型位相シフトマスクについて、ハレーション及びこれによるレジストの膜減りなどを防止し、良好なパターン形状を得ることができる露光マスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 光透過部1’と、該光透過部1’に隣接する半透過部2’とを備え、該光透過部1’と半透過部2’とは互いに位相を異ならしめて露光光を透過させる位相シフト露光マスクにおいて、上記半透過部2’の外領域(露光に寄与しない外領域)を遮光部13とする。
Claim (excerpt)：
光透過部と、該光透過部に隣接し該光透過部より露光光の透過率が低い半透過部とを備え、該光透過部と半透過部とは互いに位相を異ならしめて露光光を透過させる位相シフト露光マスクにおいて、上記半透過部の露光に寄与しない外領域を遮光部としたことを特徴とする位相シフト露光マスク。
IPC (2)：
FI (3)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
Cited by applicant (7)
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