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J-GLOBAL ID：200903096167613899

ホログラム素子およびその製造方法

Inventor： 村田 和彦 ,  中田 雄己 ,  小林 健志 ,  関根 熊二郎
Applicant, Patent owner： セキノス株式会社
Agent (1)： 斎藤 美晴
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996104823
Publication number (International publication number)：1997274425
Application date： Apr. 03, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 光学性能に優れ、低コストで量産可能なホログラム素子を得る。【解決手段】 ガラス板1上にフォトリソ工程により金属(Cr膜2)からなる微細パターンを形成してガラス製原板1aを作製する。そのガラス製原板1a上にUV硬化型樹脂6を供給する。ガラス基板7によりUV硬化型樹脂6を押圧してその微細パターンをUV硬化型樹脂層6aの表面に転写する。紫外光5を照射してUV硬化型樹脂層6aを硬化させる。一体化したガラス基板7およびUV硬化型樹脂層6aをガラス製原板1aから離型する。表面に反射防止膜8、9を形成してホログラム素子10を得る。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に微細パターンを有するUV硬化型樹脂層を設けたことを特徴とするホログラム素子。

IPC (4)：

G03H 1/02 ,  G02B 5/32 ,  G11B 7/135 ,  C23F 4/00

FI (4)：

G03H 1/02 ,  G02B 5/32 ,  G11B 7/135 A ,  C23F 4/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 原版作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-331581   Applicant：大日本印刷株式会社
• 複合型精密成形品の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-049047   Applicant：キヤノン株式会社