Pat
J-GLOBAL ID：200903096350748043
マット面をもつ半導体工業用シリカガラス物品およびその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996237319
Publication number (International publication number)：1998059744
Application date： Aug. 20, 1996
Publication date： Mar. 03, 1998
Summary：
【要約】【目的】洗浄し易くパーテクルの発生が少なく、不純物元素により汚染されることがない。しかも寸法精度の高いシリカガラス物品及びその製造方法を提供すること。【解決手段】表面が微細な多数のエクボ状の凹面と幅が0.5〜5μmの多数の溝とからなるマット面を有する半導体工業用シリカガラス物品、及びシリカガラス物品の表面を機械加工して凹凸を設けた後洗浄し、次いで3%以上20%未満のフッ化水素を含有するフッ化水素酸で処理する製造方法。
Claim (excerpt)：
半導体工業用シリカガラス物品において、その表面に微細な多数のエクボ状の凹面と幅が0.5〜5μmの多数の溝とからなるマット面が形成されていることを特徴とする半導体工業用シリカガラス物品。
IPC (5)：
C03C 15/00
, C03B 20/00
, C03C 19/00
, H01L 21/205
, H01L 21/22 501
C03C 15/00 E
, C03B 20/00
, C03C 19/00 A
, H01L 21/205
, H01L 21/22 501 M
