ターゲットとその製造方法および高屈折率膜の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：泉名謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994024420
Publication number (International publication number)：1995233469
Application date： Feb. 22, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【構成】室温での比抵抗値が10Ωcm以下であり、酸素含有量が35重量%以上であるところの主成分がTiO<SB>X</SB> (1<X<2)の酸化物焼結体スパッタリングターゲットとその製造方法および該ターゲットを用いた高屈折率膜の製造方法。【効果】本発明のターゲットを用いることにより、高屈折率の膜が高速度にしかも安定に生産できる。

Claim (excerpt)：

主成分がTiO<SB>X</SB> (1<X<2)である酸化物焼結体の製造方法において、二酸化チタン粉末を非酸化雰囲気でホットプレスして焼結することを特徴とする酸化物焼結体の製造方法。

IPC (3)：

C23C 14/34 , C04B 35/46 , C23C 14/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

スパッタリングターゲットの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-315300 Applicant：日本真空技術株式会社
合成樹脂製レンズ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-333300 Applicant：セイコーエプソン株式会社
特開平4-141577

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