ガス溶解洗浄水の評価装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999110882
Publication number (International publication number)：2000303093
Application date： Apr. 19, 1999
Publication date： Oct. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】電子材料などのウェット洗浄工程で用いられる、特定のガスを溶解させた機能性洗浄水の水質を、洗浄効果と直接関連する特性について簡便かつ正確に評価し、管理することができるガス溶解洗浄水の評価装置を提供する。【解決手段】ガスを溶解した洗浄水を送給する主配管からモニタリング配管を分岐し、モニタリング配管に、超音波照射部と微粒子モニターを順次配置してなることを特徴とするガス溶解洗浄水の評価装置。

Claim (excerpt)：

ガスを溶解した洗浄水を送給する主配管からモニタリング配管を分岐し、モニタリング配管に、超音波照射部と微粒子モニターを順次配置してなることを特徴とするガス溶解洗浄水の評価装置。

IPC (3)：

C11D 7/02 , G01N 33/18 , H01L 21/304 648

FI (3)：

C11D 7/02 , G01N 33/18 Z , H01L 21/304 648 G

F-Term (5)：

4H003BA12 , 4H003DA15 , 4H003DC04 , 4H003EA31 , 4H003ED02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

洗浄方法および洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-156910 Applicant：株式会社東芝
特開昭61-266940
基板洗浄方法および基板洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-257954 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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