画像形成材料及び画像形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996268640
Publication number (International publication number)：1997171254
Application date： Oct. 09, 1996
Publication date： Jun. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】赤外線感度、現像性及び保存性が改良された赤外線で画像露光が可能なポジ型の画像形成材料及びそれによる画像形成方法を提供する。【解決手段】 ?@支持体上に、(a)活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、(b)酸で分解し得る結合を少なくとも1つ有する化合物及び(c)赤外線吸収剤を含有する感光層を有する画像形成材料。?A上記?@において(a)が有機ハロゲン化合物である。?B上記?@において(b)が-(CH2CH2O)n-基(nは2〜5の整数)を有する化合物である。?C上記?@において(b)が一般式(1)で表される化合物である。?D上記?@において(b)が一般式(1)で表される化合物である。?E上記?@〜?Dの画像形成材料に赤外線で画像露光した後、アルカリ性現像液で露光部を除去する工程を含む画像形成方法。【化29】

Claim (excerpt)：

支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸で分解し得る結合を少なくとも1つ有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有することを特徴とする画像形成材料。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/00 503 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 504 , G03F 7/004 505

FI (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/00 503 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 504 , G03F 7/004 505

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開昭63-003647
化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-096173 Applicant：協和醗酵工業株式会社
特開昭63-110445

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