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J-GLOBAL ID：200903096842059308

高圧処理方法及び高圧処理装置

Inventor： 坂下 由彦 ,  大柴 久典 ,  猿丸 正悟 ,  渡邉 克充 ,  村岡 祐介 ,  斉藤 公続 ,  溝端 一国雄 ,  北門 龍治
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所 ,  大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 安田 敏雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001133003
Publication number (International publication number)：2002320929
Application date： Apr. 27, 2001
Publication date： Nov. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】 薬液による処理と高圧流体による処理が可能な高圧処理方法および高圧処理装置を提供する。【解決手段】 内部に処理室2を有する圧力容器1と、前記処理室2にて被処理体4を収容する収容部材5と、前記処理室2に高圧流体を供給する手段と、を備え、腐食性流体を前記処理室2に供給および/または排出するための弁構造体6、7を圧力容器1内で処理室2に連通して備えている。

Claim (excerpt)：

圧力容器(1)の処理室(2)で被処理体(4)を腐食性流体で洗浄するとき大気圧にて洗浄するとともに、洗浄後に処理室(2)から腐食性流体を排出した後、当該処理室(2)に高圧流体を供給して前記被処理体(4)を乾燥処理することを特徴とする高圧処理方法。

IPC (6)：

B08B 3/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306

FI (6)：

B08B 3/08 A ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 Z ,  H01L 21/30 570 ,  H01L 21/306 A

F-Term (11)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB95 ,  3B201CC12 ,  5F043BB27 ,  5F043CC14 ,  5F043DD10 ,  5F043EE08 ,  5F043EE32 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 超臨界乾燥装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-248672   Applicant：日本電信電話株式会社
• 超臨界乾燥装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-151360   Applicant：日立工機株式会社, 日本電信電話株式会社, 株式会社日立サイエンスシステムズ