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J-GLOBAL ID：200903096852584273
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996182445
Publication number (International publication number)：1998026820
Application date： Jul. 11, 1996
Publication date： Jan. 27, 1998
Summary：
【要約】【課題】従来のハーフトーン型位相シフトマスクの欠点を解消するために、半透明膜を単一金属化合物薄膜で形成することにより、位相シフトマスクとしての光学定数のほかに、露光光での反射率や検査波長での透過率を制御でき、且つ導電性を兼ね備えた半透明膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供することを目的とする。【解決手段】透光性基板1上に半透明膜2を設け、該半透明膜2をパターン化してなるハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記半透明膜2がジルコニウム化合物薄膜よりなり、該ジルコニウム化合物薄膜が酸化ジルコニウム膜、窒化ジルコニウム膜、酸化窒化ジルコニウム膜のうちいずれか一つよりなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク(図1(a))及びハーフトーン型位相シフトマスク(図1(c))とするものである。
Claim (excerpt)：
透光性基板上に半透明膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、前記半透明膜がジルコニウム化合物薄膜よりなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2)：
FI (3)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
