オゾンを用いた除染方法及びその装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：吉岡宏嗣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001295916
Publication number (International publication number)：2003098294
Application date： Sep. 27, 2001
Publication date： Apr. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】除染に伴なう二次廃棄物が出ない、低コストで簡便な除染方法を提供する。【解決手段】液体オゾンを気化させ、気化したオゾンを再循環ポンプ3よりも上流側の再循環ライン2に注入して炉水に溶解させてオゾン水を形成し、このオゾン水を原子炉再循環系で流動させて、金属表面に付着する放射能を低減する。

Claim (excerpt)：

放射性核種に汚染された金属の表面から放射性核種を除去する除染法において、液体オゾンからオゾンガスを気化させ、このオゾンガスを溶解させたオゾン水を前記金属の汚染面に接触させることにより、前記金属の表面から前記放射性核種を含む付着物を除去することを特徴とするオゾンを用いた除染方法。

IPC (5)：

G21F 9/28 525 , G21F 9/28 521 , G21F 9/28 , G21F 9/28 571 , C02F 1/42

FI (7)：

G21F 9/28 525 D , G21F 9/28 521 A , G21F 9/28 521 D , G21F 9/28 525 A , G21F 9/28 525 Z , G21F 9/28 571 D , C02F 1/42 G

F-Term (6)：

4D025AA09 , 4D025AB02 , 4D025AB39 , 4D025BA07 , 4D025BB01 , 4D025DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

放射線取扱施設の構造部品の化学除染方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-132892 Applicant：株式会社東芝
高濃度オゾンガス発生装置およびそのオゾンガス発生量制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-318035 Applicant：経済産業省産業技術総合研究所長, 株式会社明電舎
原子力施設系統内の化学除染方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-278765 Applicant：株式会社東芝, 東芝エンジニアリング株式会社

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