レジンダスト付着防止処理を施した銅箔又は銅合金箔及びレジンダスト付着防止方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小越勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003100091
Publication number (International publication number)：2004307888
Application date： Apr. 03, 2003
Publication date： Nov. 04, 2004
Summary：

【課題】エポキシ樹脂等を主成分とする絶縁性プリプレグとの積層工程において、レジンダストを効果的に防止し、それによって積層銅箔のエッチングに際して良好なパターン特性(パターン精度が良い)を得る。【解決手段】銅箔の光沢面をテトラエトキシシラン又はテトラメトキシシランを含有する溶液で処理し、テトラエトキシシラン又はテトラメトキシシランのレジンダスト付着防止膜を形成することを特徴とする銅箔又は銅合金箔のレジンダスト付着防止方法。

Claim (excerpt)：

銅箔の少なくとも片面にテトラエトキシシラン又はテトラメトキシシランからなるレジンダスト付着防止処理を施した銅箔又は銅合金箔。

IPC (3)：

C23C26/00 , B32B15/08 , H05K1/09

FI (5)：

C23C26/00 A , C23C26/00 Z , B32B15/08 J , B32B15/08 Z , H05K1/09 D

F-Term (28)：

4E351AA03 , 4E351BB01 , 4E351DD04 , 4E351DD56 , 4E351GG20 , 4F100AB17A , 4F100AB31A , 4F100AB33A , 4F100AK52B , 4F100AK53 , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA10B , 4F100DH01 , 4F100EH462 , 4F100EH612 , 4F100EJ082 , 4F100EJ422 , 4F100GB43 , 4F100JL00 , 4F100JL06B , 4K044AA06 , 4K044AB02 , 4K044BA06 , 4K044BB01 , 4K044BC14 , 4K044CA53 , 4K044CA62

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

画像表示装置の反射防止膜製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-026386 Applicant：三星電管株式會社
接着性促進層を有する金属箔
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-185028 Applicant：グールドエレクトロニクスインコーポレイテッド
積層体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-114654 Applicant：積水化学工業株式会社

Show all

Return to Previous Page