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J-GLOBAL ID：200903097256545763

液処理装置

Inventor： 竹熊 貴志
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998188188
Publication number (International publication number)：1999074195
Application date： Jun. 18, 1998
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ウエハなどの基板に対して液を吐出させて液処理を行うにあたり、マイクロバブルの発生を防止すると共に、ウエハに対する衝撃を緩和する。【解決手段】 回転するウエハに対して現像液を吐出させる現像液供給ノズル45の下面の吐出口61の真下に、衝突棒62を配置する。吐出口61から吐出された現像液は、衝突棒62に衝突した際に速度が減衰する。

Claim (excerpt)：

回転する基板に対して、ノズルの吐出口から処理液を吐出させて、当該基板に対して所定の処理を行う装置であって、前記ノズルの吐出口と基板表面との間に、吐出された処理液が衝突する衝突体を配置したことを特徴とする、液処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643

FI (4)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 処理方法及び処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-139364   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 現像装置とそれを用いた現像方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-036794   Applicant：富士通株式会社
• 基板表面処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-125719   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

Cited by examiner (3)

• 現像装置とそれを用いた現像方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-036794   Applicant：富士通株式会社
• 処理方法及び処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-139364   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板表面処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-125719   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社