フラボノイド組成物及び化粧剤におけるその新規使用

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：安富康男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999136331
Publication number (International publication number)：2000026263
Application date： May. 17, 1999
Publication date： Jan. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】遊離ラジカル阻害と酵素阻害というフラボノイドの初期の特性を維持していると同時に、この特性に関する用途において安定である化粧組成物、皮膚科薬剤組成物、薬剤組成物、ダイエット食組成物及び農産食品組成物における、フラボノイドの使用を提供する。【解決手段】 4位にケトン基の有するフラボノイド、上記フラボノイドの塩、エステル又はエーテル、並びに、上記フラボノイドのC-ヘテロサイド及び/若しくはO-ヘテロサイドの誘導体からなる群より選択される少なくとも1つのフラボノイドであって、少なくとも1つの遊離アルコール基を含有するフラボノイドと、炭素数3〜30の有機一塩基酸との反応生成物であるフラボノイドエステルの、化粧組成物、皮膚科薬剤組成物、薬剤組成物、ダイエット食組成物及び農産食品組成物の製造の為の有効成分としての使用。

Claim (excerpt)：

化粧組成物、皮膚科薬剤組成物、薬剤組成物、ダイエット食組成物及び農産食品組成物からなる群より選択される組成物であって、化粧学的に、皮膚科的に若しくは薬学的に許容される又はダイエット食品及び農産食品への使用においてそれぞれ許容される賦形剤、結合剤又は基剤中に、有効成分の1つとして、4位にケトン基を有するフラボノイド、前記フラボノイドの塩、エステル又はエーテル並びに前記フラボノイドのC-ヘテロシド及び/又はO-ヘテロシド誘導体からなる群より選択される少なくとも1つのフラボノイドであって、少なくとも1つの遊離アルコール残基を有するものであるフラボノイドと、炭素数3〜30の有機一塩基酸との反応生成物由来の少なくとも1つのフラボノイドエステルからなることを特徴とする組成物。

IPC (5)：

A61K 7/42 , A23L 1/30 , A61K 7/00 , A61K 31/00 617 , A61K 31/35 602

FI (5)：

A61K 7/42 , A23L 1/30 Z , A61K 7/00 D , A61K 31/00 617 J , A61K 31/35 602

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-277404 Applicant：日本製粉株式会社
特開昭55-157580
リパーゼ阻害剤及び血中トリグリセライド低下剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-001542 Applicant：日本製粉株式会社

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Cited by examiner (6)

リパーゼ阻害剤及び血中トリグリセライド低下剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-001542 Applicant：日本製粉株式会社
化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-277404 Applicant：日本製粉株式会社
特開昭55-157580

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