MALDI質量分析法のためのマトリックス干渉の軽減

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Applicant, Patent owner：
Agent (3)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006523898
Publication number (International publication number)：2007502980
Application date： Aug. 09, 2004
Publication date： Feb. 15, 2007
Summary：

本教示は、分子のマトリックス支援レーザー脱離イオン化(MALDI)質量分析法のために有用なプレートおよびそのプレートを作製するためのプロセスに関する。疎水性コーティングおよびMALDIマトリックス材料とポリマーのような境界剤との混合物の薄膜コーティングを含む複合コーティングを備える、MS分析またはMS-MS分析のために適したMALDIプレートが開示される。本教示に従って作製されるMALDIプレートは、MALDI-MSスペクトルの低質量領域(1,000ダルトン未満)におけるマトリックスイオンの抑制のために有用である。

Claim (excerpt)：

MALDI分析のためのサンプルプレートであって、該サンプルプレートは、第一の表面を有する導電性の基板を備え、該第一の表面の少なくとも一部が、疎水性コーティングおよびマトリックスと境界ポリマーとの薄膜混合物のコーティングを含む複合コーティングでコーティングされている、サンプルプレート。

IPC (2)：

G01N 27/62 , H01J 49/16

FI (3)：

G01N27/62 F , H01J49/16 , G01N27/62 V

F-Term (16)：

2G041CA01 , 2G041DA04 , 2G041DA05 , 2G041DA18 , 2G041EA01 , 2G041EA04 , 2G041FA07 , 2G041GA03 , 2G041GA06 , 2G041GA08 , 2G041GA09 , 2G041HA01 , 2G041JA06 , 2G041JA07 , 2G041JA08 , 5C038GG07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

レーザー脱離/イオン化質量分析用試料ホルダーおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-165821 Applicant：三星電子株式会社
微細で均一な結晶を形成するためのカーボン製支持板及びその応用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-182638 Applicant：アプライドバイオシステムズジャパン株式会社
疎水性MALDIプレートおよびMALDIプレートを疎水性にするためのプロセス
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-530991 Applicant：パーセプティブバイオシステムズ,インコーポレイテッド

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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