磁気ヘッド用結晶化ガラス基板およびその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂本徹 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997251389
Publication number (International publication number)：1998203847
Application date： Sep. 01, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】良好なる機械加工性および表面特性を有し、磁気ディスクに対して優れた摩擦特性を有する磁気ヘッド用結晶化ガラス基板およびその製造方法を提供することにある。【解決手段】主結晶相が二珪酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )結晶および、α-クォーツ(α-SiO2 )とα-クリストバライト(α-SiO2 )の中から選ばれた1種又は2種の結晶との混晶であり、該α-クォーツ(α-SiO2 )は結晶粒子が凝集した複数の粒子からなる球状粒子構造であり、その球状粒子の大きさは0.1〜3.0μmの範囲の径を有し、該α-クリストバライトは球状結晶粒子構造であり、その球状粒子の大きさは0.1〜1.0μmの範囲の径を有しており、更に該結晶化ガラス基板の表面粗度(Ra)は5〜50Åなる特性を有する、磁気へッド用結晶化ガラス基板を得る。

Claim (excerpt)：

磁気へッド用結晶化ガラス基板において、前記結晶化ガラス基板の主結晶相は、二珪酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )結晶および、αークォーツ(α-SiO2 )とα-クリストバライト(α-SiO2 )の中から選ばれた1種又は2種の結晶との混晶であって、該α-クォーツは結晶粒子がそれぞれ凝集した複数の粒子からなる球状粒子構造であり、その球状粒子の大きさは0.1〜3.0μmの範囲の径を有し、該α-クリストバライトは球状結晶粒子構造であり、その球状粒子の大きさは0.1〜1.0μmの範囲の径を有しており、更に前記結晶化ガラス基板の研磨後の表面粗度(Ra)は5〜50Åの範囲内であることを特徴とする、磁気へッド用結晶化ガラス基板。

IPC (6)：

C03C 10/14 , C03B 32/00 , C03B 32/02 , C03C 3/097 , G11B 5/31 , G11B 25/04 101

FI (6)：

C03C 10/14 , C03B 32/00 , C03B 32/02 , C03C 3/097 , G11B 5/31 G , G11B 25/04 101 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-303667 Applicant：株式会社オハラ
磁気ディスク用結晶化ガラス基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-042144 Applicant：株式会社オハラ
特開昭63-210039

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